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  • OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐
    OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐

    OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐專門針對(duì)于用PVD或CSS法來制作薄膜。管式爐爐管直徑為11“ OD,爐管內(nèi)載樣盤可放置3“ 的圓形或2“x2“的方形基片。加熱元件為兩組紅外燈管,分別安裝在腔體的頂端和底部,其升溫速率高達(dá)20ºC/S 。溫控系統(tǒng)為PID30段程序化控制,控溫精度為+/-1ºC。儀器面板上帶有RS485接口,儀表內(nèi)配有控溫軟件,可將升溫程序和曲線導(dǎo)出。

    更新時(shí)間:2024-11-05型號(hào):瀏覽量:1126
  • 鈣鈦礦鍍膜機(jī)
    鈣鈦礦鍍膜機(jī)

    鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等,可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作,廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領(lǐng)域。

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  • OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐
    OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐

    OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐,其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設(shè)備專門設(shè)計(jì)針對(duì)于熱蒸發(fā)或CSS(Close Spaced Sublimation)鍍膜實(shí)驗(yàn),其鍍膜面積可達(dá)到5“x5“,并且頂部載樣臺(tái)可旋轉(zhuǎn),提高鍍膜均勻性。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管(分別位于頂部和底部),大升溫速率為10ºC/s 。對(duì)于探索新一代的薄膜太陽能電池,

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  • GSL-1700X-EV4 程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀
    GSL-1700X-EV4 程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀

    GSL-1700X-EV4 程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀是一款小型溫控型蒸發(fā)鍍膜儀,內(nèi)部設(shè)有4個(gè)蒸發(fā)坩堝,且每個(gè)蒸發(fā)坩堝都帶有擋板,多可放置4種不同的蒸發(fā)物料,可在同一氣氛下依次鍍膜,實(shí)現(xiàn)多層膜的沉積工藝。可程序控溫,控溫范圍200-1500℃(選用B型熱電偶:1200℃-1700℃),大可蒸鍍直徑2英寸薄膜樣品,樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜。

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  • VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
    VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

    VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個(gè)靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個(gè)靶頭采用直流(DC)濺射,可濺射金屬靶材制備金屬膜,另一個(gè)采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,制備金屬或氧化物膜.設(shè)備上安裝有薄膜測(cè)厚儀可以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度。此設(shè)備可制作各種單層或多層薄膜,如鐵電、導(dǎo)電,合金,半導(dǎo)體,陶瓷,介電,光學(xué),氧化物和PTFE薄膜等。而且設(shè)備體積較小操作方便,是一套理想的實(shí)驗(yàn)工具。

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